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氬氣與氯氣電漿的不同之處在哪里?

所屬分類:常見解答    發(fā)布時間: 2023-03-24    瀏覽次數(shù):756


  什么是電漿?等離子體(plasma)又叫做電漿,是由部分電子被剝奪后的原子及原子團(tuán)被電離后產(chǎn)生的正負(fù)離子組成的離子化氣體狀物質(zhì),尺度大于德拜長度的宏觀電中性電離氣體,其運(yùn)動主要受電磁力支配,并表現(xiàn)出顯著的集體行為。它廣泛存在于宇宙中,常被視為是除去固、液、氣外,物質(zhì)存在的第四態(tài)。那么氬氣電漿和氯氣電漿有什么區(qū)別呢?下面一起來看看吧。

  一、氬氣電漿

  利用氬氣微型電漿系統(tǒng)分解氣態(tài)二甲基硫,將其轉(zhuǎn)化為其它物質(zhì),再借由水洗塔或別的方式來減少二甲基硫的大氣排放量,以達(dá)到保護(hù)環(huán)境的作用。在實(shí)驗(yàn)過程中研究人員以光學(xué)放射光譜儀及各式氣體分析儀檢測氬氣電漿、反應(yīng)及生成氣體。研究發(fā)現(xiàn)經(jīng)過分解,二甲基硫會分解為C*、C2*、CN*、CO*和CH*等激發(fā)物種。激發(fā)態(tài)物種離開處理系統(tǒng)后會再度結(jié)合,形成其他穩(wěn)定的化合物或物種,而以固態(tài)顆粒和氣態(tài)相兩種形式存在。在氣態(tài)相方面,分子量小的物種具活性,可能再結(jié)合成具較高熱力學(xué)穩(wěn)定性物種,如:H2S、CS2、CO和H2等氣體物種。并且隨著處理時間的延長,S2及H2的濃度則因?yàn)镠2S的分解而增加。在分解產(chǎn)物方面,我們可以利用NaOH溶液將H2S從氣態(tài)產(chǎn)物中分離,再利用活性碳將CS2收集,排出的氫氣可做為能源的再生利用。
  二、氯氣電漿

  相同壓力下,隨著輸入功率的上升氯分子濃度會下降,氯原子及氯離子濃度會上升,由于輸入功率越高,電子密度越高,氯分子解離率與游離率也越高。相同功率下,隨著壓力的上升氯分子及氯原子濃度會上升,氯離子濃度會下降,因?yàn)閴毫ι仙W拥钠骄杂陕窂綍s短,導(dǎo)致電子溫度的下降,而且負(fù)電性氣體Cl2容易與電子發(fā)生碰撞產(chǎn)生負(fù)離子(Cl-)會消耗電子,使得電子密度下降,使得氯分子游離率降低。相同壓力與輸入功率下,越靠近腔體中心氯分子濃度越低,氯離子濃度越高,因?yàn)樵娇拷惑w中心電子密度與電子溫度越高,氯分子游離率越高。當(dāng)蝕刻制程中偏壓功率開啟時,氯原子及氯離子濃度會瞬間下降,氯分子濃度會上升,且隨著越靠近晶圓表面處氯原子與氯離子濃度越低,越往腔壁處濃度越高,因?yàn)槁仍訒c晶圓表面的硅產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)產(chǎn)生SiClx,氯離子會濺擊以及離子驅(qū)策蝕刻晶圓表面,導(dǎo)致氯原子及氯離子的消耗,使得濃度下降,當(dāng)偏壓關(guān)閉時,氯原子及氯離子濃度則會瞬間上升,氯分子濃度則會下降,另外由于氯離子Cl2+與Cl-會于靠近腔體表面處產(chǎn)生再結(jié)合的效應(yīng),所以蝕刻過后越靠近腔壁處氯分子與原子濃度會變的較高。

  以上就是對氬氣和氯氣電漿相關(guān)事項(xiàng)的介紹。氬氣與氯氣,一個有毒,一個無毒,形成電漿的過程不同,作為電漿的應(yīng)用也截然不同。